专利摘要:
テトラヒドロフラン(THF)を溶媒として用いる場合に比べて安定した溶媒、例えばジエトキシメタン(DEM)中にリチウムジフェニルホスフィドを含む溶液が開示される。それらを生成する方法も開示される。
公开号:JP2011513207A
申请号:JP2010546789
申请日:2009-02-13
公开日:2011-04-28
发明作者:ヒンツェ,マーク,ジェイ;マッコール,ジェフリー,アレン
申请人:ケメタル・フット・コーポレイション;
IPC主号:C07F19-00
专利说明:

[0001] 本願は、合衆国35法典119条(e)の下に、米国仮特許出願第61/029,273(2007年2月15日提出)に基づき優先権を主張し、あらゆる目的について、この参照により全文を本開示に含むものとする。]
[0002] 本発明は、テトラヒドロフラン(THF)を溶媒として用いる場合に比べて安定した溶媒、例えばジエトキシメタン(DEM)中にリチウムジフェニルホスフィドを含む溶液、及びそれらを生成する方法に関する。]
背景技術

[0003] リチウムジフェニルホスフィドは、例えば有機化学合成及び無機化学合成におけるヒドロキシル基の除去を目的として、或いは有機金属触媒反応におけるリガンドとして、商業的に用いられている。通常、リチウムジフェニルホスフィドは、テトラヒドロフラン溶媒中に提供される。このようなリチウムジフェニルホスフィドを含むテトラヒドロフラン溶液は、商業的に入手可能ではあるが、あまり安定しておらず、従って商業的に存立可能なものではない。新規かつ安定したジフェニルホスフィドの製剤が必要とされている。]
[0004] 米国特許第5,866,720号は、無水の有機液希釈剤中の1種以上のアルカリ金属の二相混合物(好ましくはナトリウム及びカリウムの混合物又は合金)に対して、分子状水素の存在下で、トリアリールホスフィンを混合する、好ましくはトリアリールホスフィンを導入することで生成されるアルカリ金属ジアリールホスフィド類を開示している。シクロアルキルジアリールホスフィンを生成するには、上述の工程などで生成される反応混合物の少なくとも一部(又はそこから回収されるアルカリ金属ジアリールホスフィド)とメシル酸シクロアルキル又はトシル酸シクロアルキルとを混合し、好適な反応条件下に維持する。後者の反応は、第1の反応における残留ナトリウムの存在によって促進される。水素雰囲気下で後者の反応を行うと、望ましくない副反応が抑制される。]
先行技術

[0005] 米国特許第5,866,720号明細書]
発明が解決しようとする課題

[0006] 発明の目的
従って、本発明の目的は、THF溶液に比べて安定した溶液を与える溶媒中にジフェニルホスフィドを含む安定溶液を提供することにある。そのような溶液を生成する方法及び使用する方法も、本発明の範囲に含まれるものとする。好ましい溶媒の例として、エーテル類、より好ましくは酸素周囲の立体障害が最小であるエーテル(例えばC1〜C5)が挙げられる。別の好ましい溶媒として、2−メチルテトラヒドロフラン(2MeTHF)が挙げられ、これもTHFと比べて向上した安定性をもたらす。]
課題を解決するための手段

[0007] 本発明は、リチウムジフェニルホスフィドと、溶液組成がテトラヒドロフランである場合に比べて安定した溶液をもたらす溶媒とを含む溶液に部分的に関する。20℃及び35℃に制御されたインキュベータ内で、不活性で陽圧のアルゴン雰囲気中、1〜4週、好ましくは4週の期間で試験した場合に、THFを含む場合と比べて安定性が向上していることが好ましい。好ましい実施形態において、溶媒は有機溶媒を含むか、或いは有機溶媒である。好ましい溶媒は1〜5個の炭素原子を含む有機物であり、好ましくは少なくとも1個の酸素原子を含んでいる。好ましい溶媒の例として、2−メチルテトラヒドロフラン又はエーテル、例えばジエチルエーテル、ジメトキシメタン及びオルトギ酸トリエチルが挙げられる。溶媒の混合物も本発明の範囲に含まれるものとする。]
[0008] 本発明の組成物を生成する好ましい方法は、クロロジフェニルホスフィンとリチウム金属とを溶媒(例えば上述の溶媒)中に共に添加するステップと、前記溶媒の溶液中でリチウムジフェニルホスフィドを生成する反応を行うステップとを含み、ここで溶媒は、モル当量のテトラヒドロフランを溶媒として用いる場合に比べて安定した溶液をもたらすことを特徴とする。一方でTHFは、いかなる量であっても、生成物の安定性を低下させる。]
[0009] 反応は、30℃〜80℃で行う。]
[0010] 好ましい実施形態において、開始剤を溶液に添加してジフェニルホスフィドの生成を促進する。好ましい開始剤は、1,2−ジブロモエタンである。]
図面の簡単な説明

[0011] 実施例38によるDEM中のLDPPのDSCを示す。
実施例のNMRスペクトルを示す。
実施例のNMRスペクトルを示す。
実施例のNMRスペクトルを示す。
実施例のNMRスペクトルを示す。
実施例のNMRスペクトルを示す。
実施例のNMRスペクトルを示す。
実施例のNMRスペクトルを示す。
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実施例のNMRスペクトルを示す。
実施例のNMRスペクトルを示す。
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リチウムジフェニルホスフィド安定試料の写真を示す。
リチウムジフェニルホスフィド安定試料の写真を示す。
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リチウムジフェニルホスフィド安定試料の写真を示す。
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リチウムジフェニルホスフィド安定試料の写真を示す。
リチウムジフェニルホスフィド安定試料の写真を示す。
実施例に従って調製した試料の滴定に用いる装置を示す。]
[0012] 本発明のジフェニルホスフィド溶液は、溶媒がTHFである溶液と比べて、向上した安定性をもたらす。驚くべきことに、2MeTHFを溶媒として用いたところ向上した結果を示したが、概して、向上した安定性を提供する有機溶媒であればどのようなものを用いても良い。]
[0013] 好ましい溶媒はC1〜C5化合物であり、好ましくは酸素を含み、或いは少なくとも1個の炭素原子が酸素原子に置換されたものである。炭素原子が酸素原子に置換される場合、例えばエーテルの場合、(ジメチルエーテルの場合と同様に)少なくとも2個の炭素原子が存在することが好ましい。エーテル類は好ましい溶媒群であり、フラン類も同様である。好ましいエーテルは、1個又は2個のエーテル単位(−C−O−C−)を含むものであり、より好ましくは直鎖構造のものである。特に好ましいエーテルはジエチルエーテル、メチルエチルエーテル及びジプロピルエーテルであり、このように6炭素の化合物も好ましい。]
[0014] 好ましいフランは2MeTHFであり、メチル化していない同等のTHFと比べて、向上した結果が得られる。]
[0015] リチウム金属は、好ましくは不純物をほとんど又は全く含まない純リチウムであるが、特に0.001〜2重量%、好ましくは1.0〜1.5重量%の範囲でナトリウムを含み得る。リチウム金属は、特に好ましくはリチウム金属粒子の形状で供給されても良く、一般には平均粒径が1〜150ミクロン(μm)、好ましくは20〜30ミクロン(μm)の、有機液体中の分散として供給される。リチウム金属が分散剤(例えばヘプタン)中の分散として供給される場合、例えば最適な溶媒で洗浄することによって分散剤を除去して、リチウムジフェニルホスフィド(LDPP)を得る。]
[0016] 開始剤は、出発p−クロロジフェニルホスフィンとリチウムとからリチウムジフェニルホスフィドを得る反応の初速度を増加させるものであれば、どのようなものでも良い。好ましい開始剤は1,2−ジブロモエタンである。]
[0017] 好ましい実施形態において、リチウム、溶媒、及びp−クロロジフェニルホスフィンを共に添加し、30℃〜80℃、好ましくは30℃〜40℃、或いは40℃超〜80℃で反応する。50℃以上では生成物が分解する可能性があるため、50℃未満が好ましい。]
[0018] 反応物はどのような順序で混合しても良いが、p−クロロジフェニルホスフィンを添加する前にリチウム金属を溶媒に添加することが好ましい。]
[0019] 反応は、反応を完了するのに好適な時間、好ましくは1分〜10時間、より好ましくは20分〜5時間、行う必要がある。]
[0020] 得られるリチウムジフェニルホスフィドを、好適な手段、例えば濾過によって回収する。より低い温度で行うことで、濾過に必要な時間が短縮される。]
[0021] 本発明の生成物及び方法の好ましい実施形態を、以下の実施例で説明する。]
[0022] 好適な実施形態の説明
試薬:
ヘプタン中に保存したリチウム(Chemetall Foote社(ニュージョンソンビル)の工業グレード金属(金属中に不純物として約1%ナトリウムを含み、平均粒径20〜30ミクロン(μm))をヘキサンで再分散してすすぎ、アルゴンで乾燥した。乾燥した分散金属を1:0.5wt/wtの比で鉱油と混合し、グローブボックス中で保管した。リチウム分散への鉱油の添加は、グローブボックス内での乾燥金属の飛散を防ぐために行う。ナトリウムは元来含まれるものを除いてこの金属に添加しなかった。]
[0023] Aldrich社(ミズーリ州セントルイス)から商業ベースで入手可能なp−クロロジフェニルホスフィン(cat#C39601、98%)をそのまま用いた。]
[0024] 溶媒の試験には、テトラヒドロフラン(比較対照用)、ジエチルエーテル及び2MeTHFを用いた。これらは使用前にナトリウム金属を加えて蒸留し、乾燥した。他の溶媒は使用前に、モレキュラーシーブで乾燥するか又は水分の存在を調べた。使用前に精製は行わなかった。]
[0025] 装置:
特に言及しない限りは、全反応をガラス製丸底フラスコ内で行い、テフロンでコーティングした攪拌子で攪拌した。全反応を、鉱油バブラーを用いて陽圧に保たれたアルゴン下で行った。小規模反応(70mL)には、長いステンレス鋼の針を取り付けたシリンジで、クロロジフェニルホスフィンをフラスコに添加した。速度はシリンジポンプで制御した。]
[0026] 大規模反応(700mL)には、均圧添加漏斗を介してp−クロロジフェニルホスフィンを添加し、正しい反応温度を維持するように添加速度を変化させた。]
[0027] 必要に応じて反応系を冷却して、温度を40℃以下に保持した。ガラス温度計で温度を測定した。小規模反応は、ガラスフリットフィルタ(25〜50μm)により濾過し、大規模反応は、ポリプロピレン濾布を備えるステンレス鋼フィルターハウジング(直径3インチ(7.62cm))により濾過した。両フィルターにおいて、Celatom FW−12濾過助剤(Eagle−Picher社)を濾床として用いた。]
[0028] 重水素化ベンゼンを溶媒として用いるVarian400MRによってNMRスペクトルを得、その際プロトンスペクトルはテトラメチルシランを基準とした。リンのスペクトルは補正しなかった(すなわち、ppmスケールに設定する内部標準無し)。
〔DEM中での反応例〕]
[0029] ]
[0030] 本実験で用いた量:
リチウム:9.57g(1.38mol)
クロロジフェニルホスフィン:126.22g(0.572mol)
ジエトキシメタン:489.12g]
[0031] 攪拌子を備える1リットルフラスコに、リチウム(上記したように、鉱油中に1:0.5の比で含まれる)をチャージした。フラスコに温度計と添加漏斗とを取り付けた。DEMを添加して、攪拌を開始した。約10%(10mL)の出発原料をフラスコに添加した。3時間後、温度は21℃上昇し、添加を開始した。必要に応じて冷却により温度を30℃±2℃に維持した。添加には80分かかった。1.5時間後、NMRスペクトルを得たところ、反応が不完全であることが示されたため、溶液を一晩攪拌した。翌朝、反応が終了した。溶液を濾過してリチウムジフェニルホスフィンを回収し、濾過ケーキを16.442gのDEMですすいだ。601.96gの澄んだ茶色の溶液を回収し、試料を分析にかけた(活性体:17.91%、収率:98.09%)。]
[0032] 表1(下記)に、試験した溶媒と収率とを列挙する。リチウムジフェニルホスフィドを生成する反応は30℃〜80℃の温度範囲で行った。40℃以下の温度で反応を行うと収率が向上し濾過時間が低減するというデータが示されており、これが本発明の好ましい実施形態である。これより高い温度で反応を行うと濾過時間が約3時間となり、一方30℃〜40℃で行うと、濾過時間はわずか30〜60分に減少した。示差走査熱量測定(DSC)プロット(図1)から、生成物の分解が約50℃にて始まることが分かる。] 図1
[0033] 小規模反応(70mL)の開始には10〜20分かかった。一方、大規模反応(700mL)では、開始が最大3時間かかり得る。]
[0034] リチウムジフェニルホスフィドの開始溶液をフラスコに添加したところ、反応が迅速に開始されることが示された。これは好ましい実施形態であるが、本発明の実施に必須ではない。]
[0035] 実施例37において1,2−ジブロモエタン(4.2gm)も添加したところ、大規模実験(700mL)の開始に必要な時間が約1時間に短縮されることが示された。]
[0036] 反応の進行を温度及びNMRの両方でモニターした。溶液の色が緑に変化するのと共に温度が上昇したことから、反応が開始したことが分かった。反応の進行を調べるためにNMR試料を得て、芳香族領域におけるピークを比較した(図10及び図11)。] 図10 図11
[0037] 温度制御したインキュベータ内で、不活性で陽圧のアルゴン雰囲気中、20℃及び35℃におけるこの生成物の安定性を試験した(表2〜表9参照)。テフロンキャップを備える2オンス(59.14mL)ガラス瓶に試料を入れ、上記温度で最大4週間保存した。実施例28では、反応終了時の溶液中に残った出発原料が通常量より多かった(生成物と出発原料との比は4:1であったが、通常の比は4:0.3である)。4週間の安定性試験によって、試料はガラス瓶の壁で薄膜に成長した。この薄膜は他の試料において見られなかった。]
[0038] ]
[0039] 以下の方法を用いて、表1のデータを計算した。]
[0040] 〔sec−ブタノールを用いた滴定によるリチウムジフェニルホスフィド(LDPP)中の活性塩基(active base)の決定〕
<一般事項>
全てのガラス器具をオーブンで乾燥し、アルゴンでパージした。キシレン及びsec−ブタノールを、使用前に、活性化したモレキュラーシーブで乾燥した。滴定は乾燥アルゴンの不活性雰囲気下で行った。]
[0041] <滴定の設定>
乾燥しアルゴンでパージした三つ口丸底フラスコに隔膜で蓋をし、アルゴン配管でアルゴン雰囲気下に維持した。乾燥ビュレットを冷却し、隔膜で蓋をし、ビュレットの先端を隔膜の穴を通して丸底フラスコ内に導入した(図37参照)。アルゴンを充填したガラスシリンジをビュレット上部の隔膜の中へ通し、滴定中の圧力を均一にした。] 図37
[0042] <溶媒の調製と乾燥>
アルゴンでパージしたシリンジを用いて、20mLのキシレンを丸底フラスコへ移した。アルゴンでパージした注射器を用いて0.05Mの1,10−フェナントロリン指示薬のキシレン溶液0.5mLを、フラスコへ移した。色が濃紫へ変わるまで、針を備えるパージした別の注射器を用いて、試料数滴をフラスコ内の溶液に添加した。0.5Mのsec−ブタノールを含むキシレン滴定剤で、指示薬が終点を示すまで、フラスコ中の試料を滴定した。ビュレット上の容積を開始時容積として記録した。]
[0043] <滴定>
針を備え、アルゴンでパージした注射器を用いて、試料を2mL取り出し、試料の重量を、0.0001グラム単位までwgt試料として記録した。試料を滴定フラスコに注入し、指示薬の終点まで滴定した。最終容積を記録し、滴定の間に使用した容積を計算した。使用した滴定剤の容積を計算して、V滴定剤とした(単位はリットル)。
〔活性塩基濃度〕
wgt%=100%×V滴定剤×Msec−ブタノール×MW試料/wgt試料]
[0044] 〔安定性〕
様々な溶媒中にLDPPを含む数種の溶液の安定性について試験した。結果を下記表に示す。温度を付記していない試料は、20℃で試験を行い、分析を同一試料について行った。温度を付記している試料は、同一バッチから複数試料を得たものである。全てのデータは重量%で示した。]
[0045] ]
[0046] ]
[0047] ]
[0048] ]
[0049] ]
[0050] ]
[0051] ]
[0052] ]
[0053] この結果は、向上し且つ安定したリチウムジフェニルホスフィドの製剤が、THF以外の溶媒を用いて調製可能であることを示している。オルトギ酸トリエチルを除いて、実験に用いた上述の全ての溶媒が、THFの製剤に比べて改善された結果を示した。]
実施例

[0054] 本明細書において引用した全ての参考文献は、あらゆる目的について、この参照によりその全文を本開示に含むものとする。]
权利要求:

請求項1
リチウムジフェニルホスフィドと、溶液組成がテトラヒドロフランである場合に比べて安定した溶液をもたらす溶媒と、を含む溶液。
請求項2
前記溶媒は、有機溶媒を含む請求項1に記載の溶液。
請求項3
前記有機溶媒は、メチルテトラヒドロフラン又はエーテルのうち少なくとも1種を含む請求項2に記載の溶液。
請求項4
前記溶媒は、1〜5個の炭素原子を含む請求項2に記載の溶液。
請求項5
前記溶媒は、ジエチルエーテル、2−メチルテトラヒドロフラン又はジメトキシメタンのうち少なくとも1種を含む請求項1に記載の溶液。
請求項6
前記溶媒は、ジエトキシメタンを含む請求項1に記載の溶液。
請求項7
開始剤を更に含む請求項1に記載の溶液。
請求項8
前記開始剤は、1,2−ジブロモエタンである請求項1に記載の溶液。
請求項9
溶媒中にクロロジフェニルホスフィンとリチウム金属とを共に添加するステップと、前記溶媒の溶液中でリチウムジフェニルホスフィドを生成する反応を行うステップと、を含む方法であって、前記溶媒は、モル当量のテトラヒドロフランを溶媒として用いる場合に比べて、安定した溶液をもたらす方法。
請求項10
前記反応は、30℃〜80℃で行われる請求項10に記載の方法。
請求項11
開始剤を添加するステップを更に含む請求項9に記載の方法。
請求項12
前記開始剤は、1,2−ジブロモエタンである請求項11に記載の方法。
請求項13
前記溶媒は、1又は2個のエーテル単位を含むエーテルである請求項1に記載の溶液。
請求項14
前記溶媒は、直鎖状エーテルである請求項1に記載の溶液。
請求項15
前記溶媒は、1又は2個のエーテル単位を含むエーテルである請求項9に記載の方法。
請求項16
前記溶媒は、直鎖状エーテルである請求項9に記載の方法。
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